_jsq_(1040,'/tzggcentent.jsp',1481,1940856777) 
function _nl_ys_check(){ var keyword = document.getElementById('showkeycode249966').value; if(keyword==null||keyword==""){ alert("请输入你要检索的内容!"); return false; } if(window.toFF==1) { document.getElementById("lucenenewssearchkey249966").value = Simplized(keyword ); }else { document.getElementById("lucenenewssearchkey249966").value = keyword; } var base64 = new Base64(); document.getElementById("lucenenewssearchkey249966").value = base64.encode(document.getElementById("lucenenewssearchkey249966").value); new VsbFormFunc().disableAutoEnable(document.getElementById("showkeycode249966")); return true; }
大型仪器设备展示
大型仪器设备展示
超高真空多功能磁控溅射设备
2023-09-20 11:53      审核人:

设备名称:超高真空多功能磁控溅射设备

型号:JGP500D1

负责人:李翠平

设备简介:JGP500D1超高真空多功能磁控溅射设备主要由溅射室、进样室、磁控溅射靶、直流脉冲溅射电源、射频匹配电源、脉冲偏压电源、样品台、加热、真空系统、气路系统、半自动控制系统等组成;该设备主机与控制一体化设计,操控方便,结构紧凑,占地面积小。

该系列设备广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等。

主要适用于开发纳米级单层、多层及复合膜层等;制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜、介质膜等,例:银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、氮化钛、氮化铬、ITO、二氧化硅等;